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离子镀 蒸发物资的份子被电子碰撞电离后以离子堆积在固体外面,称为离子镀。这类技巧是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技巧的联合。一种离子镀体系如图4[离子镀体系示意图],将基片台作为阴极,外壳作阳极,充入惰性气体(如)以发生辉光放电。从蒸发祥蒸发的份子经由过程等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加快打到基片外面。未电离的中性原子(约占蒸发料的95%)也堆积在基片或真空室壁外面。








溅射原子在基片外面堆积成膜。与蒸发镀膜分歧,溅射镀膜不受膜材熔点的限定,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物资。溅射化合物膜可用反响溅射法,行将反响气体份子束内涵法普遍用于制作各类光集成器件和各类超晶格布局薄膜。

 (O、N、HS、CH等)参加Ar气中,反响气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反响天生化合物(如氧化物、氮化物等)而堆积在基片上。

典型的光学镀膜材料是铝镀膜玻璃。由于银会反射更多的光,像银这样更昂贵的涂层将导致更昂贵的镜子的制造,从而具有更高的质量。光学涂层用于折射光线,而不是反射光线。这就是所谓的电介质涂层,它不仅用于消费者,也用于科学设备,如望远镜和激光。他们设计了这样的产品,如无反射的计算机屏幕、航天飞机的窗户和钱德拉X射线望远镜的镜子。